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Limpieza Del UV-Ozono: Introducción y fundamentos

El ozono, un compuesto que consiste en tres átomos de oxígeno, es un limpiador altamente eficiente. Cuando está apareado con una fuente de la luz ultravioleta, el ozono puede limpiar casi cualquier superficie rápidamente y con eficacia. Esto se ha confirmado con años de la prueba y de la investigación.

En los años 70, una serie de experimentos primero comenzó a demostrar la eficacia de la limpieza UV, y eventual, la combinación de UV y del ozono. Un experimento temprano en 1972 demostró esa luz UV, combinada con un filtro del cuarzo y una lámpara del mercurio que generó el ozono, podía ayudar con éxito al depolymerization de los polímeros del photoresist.

Otro experimento podía demostrar la capacidad de UV y el ozono a los hidrocarburos limpios de superficies del cristal y del oro. Los resultados indicaron que los hidrocarburos absorbidos se podrían quitar de estas superficies después de 15 horas de exposición a la mezcla de UV/Ozone, y que almacenar las superficies por debajo del limpiador admitiría que limpieza que se conservará indefinidamente.

Otra serie de pruebas en los últimos años 70 demostró la capacidad de una mezcla de UV/ozone de limpiar superficies en menos que un minuto, bajo condiciones óptimas. Desde entonces, el uso de UV/ozone ha estado aumentando constantemente de muchas industrias.

Para determinar las condiciones óptimas para la limpieza de UV/ozone, los experimentadores comenzaron creando dos cajas UV de la limpieza, hechas fuera del aluminio. Ambas cajas contuvieron las lámparas del mercurio, que serían utilizadas para generar diversas longitudes de onda de la luz, sirviendo como la variable en el experimento. Solamente la luz se absorbe que puede estar de uso en la limpieza, así que de ella es importante determinarse lo que se absorben las longitudes de onda lo más eficientemente posible.

Dos diversas longitudes de onda estaban de la mayoría del interés al experimento el 184.9nm y 253.7nm. que las luces pasaron a través de tres diversos materiales del sobre (cuarzo, cristal alto de la silicona, y cristal) en cada longitud de onda. El cuarzo podía conducir a la creación de el 184.9nm y los 253.7nm, mientras que los sobres de cristal no podrían producir ambos. La producción de ambas longitudes de onda es significativa. El ozono se crea en el nivel del 184.9nm, mientras que la presencia de las ayudas de los 253.7nm en la destrucción del ozono. Si ambos están presentes, después hay una creación y una destrucción constantes del ozono, que en vueltas anima la formación del oxígeno atómico, un agente que oxida excepcionalmente fuerte.

Mientras que el ozono y la radiación UV combinan para ser un limpiador fuerte, los experimentadores encontraron que la contaminación gruesa se debe quitar antes del proceso. La prelimpieza permite el retiro de contaminantes como el polvo, que no se pueden limpiar por el ozono y la luz UV. También, evita que los contaminantes formen un protector contra los rayos UV con la acumulación excesiva.

Quitando la contaminación principal con otro proceso de la colada, la etapa UV y del ozono podrá pelar lejos el más difícil de alcanzar, más pequeño, las partículas de la contaminación. El experimento demuestra que los varios métodos, si son acuosos, solventes, o una combinación serán adecuados.

Dependiendo de la cantidad de contaminación y de distancia de la fuente de la mezcla de la limpieza, el proceso de la limpieza puede ser notable rápido. Para medir esto, la una sola pieza colocada los experimentadores del material que se limpiará 5m m de la fuente de luz en la primera caja y en la segunda caja puso un pedazo de material en los 8cm. El pedazo establecido en 5m m fue limpiado 10 veces más rápidamente que la muestra en los 8cm.

Con una combinación de longitudes de onda en el 184.9nm y los 253.7nm con el uso de un filtro del cuarzo, una distancia pequeña de la fuente de luz, y una prelimpieza, los materiales de la muestra fueron limpiados en aproximadamente 10 segundos. Los materiales alcanzaron una mayor nivel notable de la limpieza en este método que produjo superficies limpias cercanas-ato'mico, como evidenciado por la espectroscopia del electrón de Auger (AES), la espectroscopia del electrón para el análisis químico (ESCA), y el ion que dispersa la espectroscopia de la masa del ion de spectroscopy/secondary (ISS/SIMS) estudia.

La limpieza de UV/Ozone tiene muchos usos. Puede ser utilizada para limpiar los semiconductores, como estaba en el experimento. Puede también ser eficaz en agua de la limpieza. La combinación de la limpieza ha demostrado la capacidad al agua clara de contaminantes tóxicos como el etanol, la basura médica, y los pesticidas. Otras pruebas a propósito de la limpieza del agua con UV/Ozone han demostrado que usar los dos en la conjunción es más eficaz que usando cualquiera solamente.

Este método de limpieza trabaja en muchas superficies planas proporcionó bien la disposición apropiada se utiliza. Mientras la superficie que se limpiará ha tenido contaminación gruesa quitada, se expone correctamente a la luz, y dado la cantidad de hora óptima de ser limpiado, la limpieza de UV/Ozone producirá una superficie casi totalmente limpia por cualquier medida.

Sobre el autor

Midbrook es abastecedor poseído minoría de la arandela de las piezas y los sistemas de limpieza de las piezas, las fabricaciones de metal de encargo, los sistemas embotelladors del agua de CapSnap, y los servicios de la limpieza de la producción.